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对磁流变抛光来说,磁流变抛光液为什么这么重要?

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浏览:- 发布日期:2022-08-30 10:43:55【

现代光学系统对光学元件的制造精度、批量和进度都提出了更高的要求。我国的惯性约束核聚变工程,需要在5~10年的时间内完成大批量不同口径的光学平面、曲面零件的高精度抛光和检测;对于大口径的光学元器件,要求其面型精度达到λ/10~λ/20、表面粗糙度Ra<5nm(甚至Rq优于0.5nm)。

这些高精度的光学零件加工特别是大口径非球面超精密、超光滑以及高效的抛光,需要关键的抛光设备和抛光材料。磁流变抛光在光学微纳制造方面是公认的革命性技术,能快速获得数十纳米以下的面形精度(PV)和1nm以下的表面粗糙度(Rq)。同时具有抛光斑和去除函数稳定、去除量确定、去除率高、几乎无亚表面损伤、适合于复杂面型抛光等优点。

磁流变抛光机抛光KDP晶体

-磁流变抛光机抛光KDP晶体-

在磁流变抛光过程中,抛光粉作用于工件表面的法向力(大约1×10-4mN)远小于化学机械抛光(CMP)的法向力(5~200mN)。所以,磁流变抛光主要是在切向方向实现材料的去除,在抛光过程中不引入新的亚表面损伤。

在磁流变抛光技术中,实现工艺和抛光液的有效协同,是获得良好抛光效果的关键。磁流变抛光液是抛光的工作介质(工具),是磁流抛光技术的核心之一,直接决定着抛光过程的材料去除和抛光质量。

明白了吗?这就是磁流变抛光液如此重要的原因。

卓精艺磁流变抛光液,具有无毒、无害、无挥发、稳定性好的特性,可用于单晶硅、多晶硅等晶体材料和碳化硅、陶瓷、蓝宝石等硬脆材料的磁流变修形抛光。如果您对我们感兴趣,欢迎来电咨询!