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研究：影响磁流变抛光效果的3大因素
影响磁流变抛光效果的因素很多，工件的曲率半径、工件浸入磁流变抛光液中的深度、工件轴的摆角、抛光时间、运动盘的速度、工件与运动盘形成的间隙大小、磁场强度、抛光驻留时间、抛光头形状、磨料种类、粒度等因素都...2022.08.12
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磁流变抛光技术的4大优点及3大关键技术
磁流变抛光大家应该都不陌生了，以前我们介绍过它的原理、设备、发展、起源等知识，今天我们继续来了解磁流变。2022.08.08
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大尺寸碳化硅晶圆的生产和制备，为什么这么难？
有数据显示，衬底成本大约占晶片加工总成本的50%，外延片占25%，器件晶圆制造环节20%，封装测试环节5%。2022.08.04
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谈一谈：小工具数控抛光与去除函数
为满足现代天文学、军事等领域对大口径、高精度的光学元件的需求，计算机控制表面成型技术(CCOS)在精密光学元件加工上得到了广泛的应用与发展。2022.08.02
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超精密加工的关键设备：揭秘离子束抛光机床之二
上一篇文章我们介绍了离子束抛光的去除函数，今天卓精艺带大家来看看具体的验证实验。 验证实验 采用K9、熔石英玻璃开展了多次面形实验，平均收敛率达50%以上，体现了离子束抛光确定性高、快速收敛的优点。其中，φ1...2022.07.27
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