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磁流变抛光技术的发展历程,卓精艺带你详细了解

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浏览:- 发布日期:2022-05-09 10:08:00【

从之前的文章中我们得知:磁流变抛光技术是20世纪80年代国外发展起来的一种新兴的高端光学制造技术,那么你知道这种技术的详细发展历程吗?跟着卓精艺一起来看看。

卓精艺磁流变抛光机

-卓精艺磁流变抛光机-

磁流变抛光技术首先由前苏联的W. I. Kordonski 等人在位于白俄罗斯明斯克的传热传质研究所的实验室里发明,他们在20世纪80年代末验证了合理配制的磁流变液在磁场中可以进行光学抛光,90 年代初W. I. Kordonski在明斯克制备了第一台磁流变抛光技术原理样机,和现代的轮式磁流变并不一样,它是利用一个环形槽储存磁流变液,环形槽转动的同时带动磁流变液,经过磁场时磁流变液变硬,实现光学元件的抛光。从这种抛光结构可以明显看出,原始的磁流变抛光设备还不具备CCOS的基本思想,此时仅能对非球面进行抛亮,很难对面形进行修整。

由于苏联的解体导致白俄罗斯没有财力也没有工程需求的动力去发展磁流变抛光技术,但美国投资人经过对苏联遗留的高端科技的调查,很快意识到磁流变抛光技术的潜在能力。他们把W. I. Kordonski等人邀请至美国罗切斯特大学光学中心(COM),两方进行合作研发磁流变抛光设备。

1993年以白俄罗斯的W. I. Kordonski和美国罗切斯特大学Steve Jacobs 为主导的合作团队制备出了磁流变抛光原理样机,其与1992年W. I. Kordonski等人在明斯克制备的磁流变抛光原理样机一致,通过大量实验验证了磁流变高效高精度低损伤的光学抛光能力,初步得到了D字形的材料去除分布。

真正的革新始于1995年COM对正置式轮式磁流变抛光设备的研制成功,W. I. Kordonski首先提出了这种轮式结构,其工件位于抛光轮上方,一般称为正置式磁流变抛光设备。轮式磁流变抛光设备的发明使得磁流变抛光技术可以真正用于非球面光学修形和抛光,借助CCOS的基本思想,现代磁流变抛光技术被真正地建立起来了。

1996年COM制备了正置式磁流变抛光数控中心,由此磁流变抛光技术真正进入了光学加工技术的行列。

1997年在COM对磁流变抛光技术研究的基础上,建立了QED公司,开始了磁流变抛光的商业化道路。

国内长春光学精密机械研究所、哈尔滨工业大学、苏州大学、清华大学、国防科技大学、湖南大学等单位都对磁流变抛光技术开展了研究。

国防科技大学李圣怡教授带领团队突破重重技术瓶颈, 2012年成功自主研制了磁流变和离子束两种超精抛光装备,创造了光学零件加工的亚纳米精度,并通过国家权威部门验收。据专家介绍,这一成果使我国成为继美国、德国之后第3个掌握高精度光学零件制造加工技术的国家,并成为世界上唯一同时具有磁流变和离子束抛光装备研发能力的国家。

国防科大精密工程创新团队先后研发出大口径2米磁流变复合抛光机床和大口径2米离子束抛光机床,具备2m量级大口径球面、自由曲面及离轴非球面的高效高精度确定性加工。

2019年,湖南诺贝斯特科技有限公司专注于提供高品质超精密光学智能抛光装备,推出应用型卓精艺小磨头抛光机和磁流变抛光机,应用于企业光学智能数控抛光。设备供货周期短、高性价比。

目前,磁流变抛光技术是可控柔体确定性抛光技术,应用于光学元件精密、超精密制造,以精确微量确定性去除、高效率获得数十纳米以下高精度面形、纳米级表面质量且近无亚表面缺陷,很好地满足航天、航空和国防等领域光学元件的超精密加工需求。

磁流变抛光机加工碳化硅元件

-磁流变抛光机加工碳化硅元件-

卓精艺公司研发生产的磁流变抛光机,可实现超光滑、超精密抛光,加工精度:纳米精度加工,RMS 1/100λ(λ=632.8nm);表面粗糙度:优于0.5nm RMS;可对石英、微晶、ULE、BK7、单晶硅、碳化硅、蓝宝石、硫化锌等材料,实现平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面加工。如果您对我们感兴趣,欢迎来电咨询!